离子束刻蚀(聚焦离子束刻蚀)_2
离子束刻蚀
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离子束刻蚀-简介
离子束刻蚀以离子束为刻饰手段达到刻饰目的的技术，其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。
离子束刻蚀-介绍
离子束最小直径约10nm，离子束刻蚀的结构最小可能不会小于10nm。...
离子束
离子束刻蚀(聚焦离子束刻蚀)_1
离子束刻蚀
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离子束刻蚀-简介
离子束刻蚀以离子束为刻饰手段达到刻饰目的的技术，其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。
离子束刻蚀-介绍
离子束最小直径约10nm，离子束刻蚀的结构最小可能不会小于10nm。...
离子束(离子束祛疤多少钱一次)
离子束
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以近似一致的速度沿几乎同一方向运动的一群离子。
离子源 用以获得离子束的装置。在各类离子源中，用得最多的是等离子体离子源，即用电场将离子从一团等离子体中引出来。这类离子源的主要参数由等离子体的密度、温度和引出系统的质量决定。属于...
离子束刻蚀(聚焦离子束刻蚀)
离子束刻蚀
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离子束刻蚀-简介
离子束刻蚀以离子束为刻饰手段达到刻饰目的的技术，其分辨率限制于粒子进入基底以及离子能量耗尽过程的路径范围。
离子束刻蚀-介绍
离子束最小直径约10nm，离子束刻蚀的结构最小可能不会小于10nm。目前...
聚焦离子束(聚焦离子束FIB-SEM扫描电镜)
聚焦离子束
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聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB)的系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器，目前商用系统的离子束为液相金属离子源(Liquid Metal Ion Source,LMIS)，金属材...